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                  您的位置:首頁(yè)  -  技術(shù)文章  -  HORIBA 放射溫度計(jì) IT-545系列 半導(dǎo)體制造工藝

                  HORIBA 放射溫度計(jì) IT-545系列 半導(dǎo)體制造工藝

                  更新時(shí)間:2025-11-14      瀏覽次數(shù):11

                  一、 核心應(yīng)用場(chǎng)景

                  IT-545系列主要用于需要精確、快速和穩(wěn)定測(cè)溫的半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié),特別是快速熱處理 和單片式熱處理 設(shè)備。

                  1. 快速熱處理: 這是IT-545最的經(jīng)的典的應(yīng)用領(lǐng)域。RTP工藝要求在極短的時(shí)間內(nèi)(幾秒到幾十秒)將硅片加熱到數(shù)百甚至上千攝氏度,并進(jìn)行退火、氧化、燒結(jié)等操作。

                    • 應(yīng)用工藝: 尖峰退火、快速熱退火、快速熱氧化、金屬硅化物形成等。

                    • 作用: 精確控制溫度曲線,確保工藝均勻性和重復(fù)性,避免熱預(yù)算過(guò)大,激活雜質(zhì)而不導(dǎo)致過(guò)度擴(kuò)散。

                  2. 單片式熱處理: 在先進(jìn)的邏輯和存儲(chǔ)器芯片制造中,對(duì)每個(gè)晶圓進(jìn)行單獨(dú)、精確的工藝控制是趨勢(shì)。IT-545是這類(lèi)設(shè)備的核心傳感器。

                    • 應(yīng)用設(shè)備: 立式爐、單片式處理設(shè)備。

                    • 作用: 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)晶圓溫度,實(shí)現(xiàn)閉環(huán)控制,保證每一片晶圓的工藝結(jié)果一致。

                  3. 外延生長(zhǎng): 在硅襯底上生長(zhǎng)單晶硅層或其他半導(dǎo)體材料層時(shí),需要非常穩(wěn)定的高溫環(huán)境。

                    • 作用: 監(jiān)控襯底溫度,確保外延層的生長(zhǎng)質(zhì)量和厚度均勻性。

                  4. 化學(xué)氣相沉積: 某些CVD工藝對(duì)溫度敏感。

                    • 作用: 實(shí)時(shí)監(jiān)控晶圓表面溫度,保證薄膜沉積的均勻性和特性。

                  二、 IT-545系列的主要特點(diǎn)與技術(shù)優(yōu)勢(shì)

                  HORIBA IT-545之所以能在要求嚴(yán)苛的半導(dǎo)體領(lǐng)域占據(jù)領(lǐng)的先地位,源于其多項(xiàng)獨(dú)特技術(shù)。

                  1. 高精度與高重復(fù)性

                    • 測(cè)溫范圍: 覆蓋中溫到高溫,例如200°C至1300°C以上(具體取決于型號(hào)和選配)。

                    • 高精度: 典型精度可達(dá)讀數(shù)的±0.3% 或 ±1°C(取較大值)。

                    • 高重復(fù)性: 這是半導(dǎo)體工藝的關(guān)鍵,IT-545能提供極的高的測(cè)量穩(wěn)定性,確保批與批、片與片之間的一致性。

                  2. 極快的響應(yīng)速度

                    • 響應(yīng)時(shí)間可短至1毫秒。這對(duì)于捕捉RTP過(guò)程中溫度的瞬間變化至關(guān)重要,使設(shè)備控制系統(tǒng)能夠及時(shí)做出反應(yīng),精確跟蹤設(shè)定的溫度曲線。

                  3. 雙波長(zhǎng)技術(shù)

                    • 降低發(fā)射率影響: 對(duì)于發(fā)射率未知或變化的表面,雙波長(zhǎng)測(cè)溫比單波長(zhǎng)更具魯棒性。

                    • 抗干擾能力強(qiáng): 能夠有效克服測(cè)量路徑中水蒸氣、灰塵、窗口污染等引起的信號(hào)衰減,因?yàn)檫@些干擾對(duì)兩個(gè)波長(zhǎng)的影響是相似的,通過(guò)比值計(jì)算可以部分抵消。

                    • 適用于非灰體表面: 在硅片經(jīng)歷不同工藝階段(如從光滑表面變?yōu)榇植诒砻妫蛐纬山饘俟杌铮r(shí),其發(fā)射率會(huì)變化,雙波長(zhǎng)技術(shù)能提供更可靠的測(cè)量。

                    • 這是IT-545系列的核心技術(shù)之一。它通過(guò)測(cè)量?jī)蓚€(gè)不同波長(zhǎng)的紅外輻射強(qiáng)度來(lái)計(jì)算溫度。

                    • 優(yōu)勢(shì)

                  4. 光纖傳輸

                    • 抗電磁干擾: 探頭可以安裝在充滿電磁噪聲的設(shè)備腔室內(nèi),而不受影響。

                    • 耐高溫: 探頭本身體積小,可以靠近高溫?zé)嵩窗惭b,而信號(hào)處理單元可以放置在遠(yuǎn)離熱區(qū)的涼爽位置。

                    • 靈活性高: 易于在設(shè)備內(nèi)進(jìn)行安裝和布線。

                    • 測(cè)溫探頭(傳感器頭)通過(guò)光纖與信號(hào)處理單元連接。

                    • 優(yōu)勢(shì)

                  5. 小巧的探頭設(shè)計(jì)

                    • 傳感器探頭非常緊湊,可以輕松集成到空間有限的半導(dǎo)體設(shè)備腔室中,并通過(guò)一個(gè)小的視窗進(jìn)行觀測(cè)。

                  6. 強(qiáng)大的軟件與分析功能

                    • HORIBA提供配套的軟件,用于溫度曲線的實(shí)時(shí)顯示、記錄、分析和工藝配方設(shè)定,便于工程師進(jìn)行工藝開(kāi)發(fā)和故障診斷。

                  三、 選型與使用注意事項(xiàng)

                  在選擇和使用IT-545時(shí),需要考慮以下幾點(diǎn):

                  • 型號(hào)選擇: IT-545系列有不同子型號(hào),對(duì)應(yīng)不同的測(cè)溫范圍、波長(zhǎng)和精度,需要根據(jù)具體的工藝溫度窗口來(lái)選擇。

                  • 波長(zhǎng)選擇: 根據(jù)被測(cè)材料(如硅、鍺、砷化鎵等)在不同溫度下的光譜特性選擇合適的測(cè)量波長(zhǎng)。

                  • 視窗材料: 測(cè)量腔室上的觀測(cè)視窗必須對(duì)測(cè)溫儀所使用的紅外波長(zhǎng)有高透過(guò)率(例如,對(duì)于短波測(cè)量,常用藍(lán)寶石視窗;對(duì)于長(zhǎng)波,可用ZnSe等)。

                  • 視窗清潔: 視窗污染會(huì)嚴(yán)重影響測(cè)量精度,需要定期清潔和維護(hù)。

                  • 校準(zhǔn): 為確保長(zhǎng)期精度,需要按照廠家建議進(jìn)行定期校準(zhǔn)。

                  總結(jié)

                  HORIBA IT-545系列是半導(dǎo)體制造,特別是先進(jìn)RTP和單片熱處理工藝中溫度測(cè)量和控制的“黃金標(biāo)準(zhǔn)"之一。 其憑借雙波長(zhǎng)技術(shù)毫秒級(jí)響應(yīng)速度光纖傳輸高精度/高重復(fù)性,為芯片制造商提供了實(shí)現(xiàn)尖的端工藝節(jié)點(diǎn)所必需的、可靠的溫度數(shù)據(jù),是保障芯片性能、良率和可靠性的關(guān)鍵設(shè)備。


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