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                  Quark準分子燈技術原理

                  更新時間:2024-09-18      瀏覽次數(shù):665
                    簡介 – 準分子燈照射裝置需求的背景
                   
                    電子微加工技術的創(chuàng)新不斷進步。與此同時,凈化和表面處理在半導體等先進技術的制造過程中也變得至關重要。其關鍵技術是使用真空紫外光(172nm VUV)對基材表面進行干洗或改性。人們不斷需要提高清潔性能和縮短處理時間。準分子VUV光已被認為是滿足這一市場需求的極其有效的技術,并正在引起人們的關注。
                   
                    準分子燈發(fā)光原理
                   
                    準分子燈由充滿稀有氣體或稀有氣體鹵化物放電氣體的雙石英管以及內(nèi)電極和外電極組成。
                   
                    通過石英管在電極之間施加高頻和高電壓,放電氣體被激發(fā),然后變成準分子狀態(tài),并在返回到基態(tài)時產(chǎn)生真空紫外光(準分子燈光或VUV)。
                   
                    準分子燈的光是準單色的,波長根據(jù)放電氣體的類型(氙Xe2、氬Ar2等)而變化。在通常用于光清潔和改性的波長為172 nm的準分子光的情況下,使用氙作為放電氣體。
                   
                    上述反應步驟如下式所示。
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                    準分子燈的特點
                   
                    準分子燈是一種能發(fā)射真空紫外光的光源,其發(fā)光原理和結構與傳統(tǒng)的放電燈(汞燈、氙燈等)不同。
                   
                    準分子燈具有以下優(yōu)良特性。
                   
                    特點1:準單色光
                   
                    產(chǎn)生準單色光,能量轉換效率高。與其他放電燈不同,它發(fā)射的可見光和紅外光相對較少,對于干洗和重整來說是不必要的,并且不會對工件造成熱損傷。因此,現(xiàn)在可以在低溫工藝中進行表面處理。
                   
                    特點2:發(fā)射波長為172 nm的準分子光
                   
                    準分子燈發(fā)射波長為172 nm的真空紫外光(VUV),其光子能量比用于傳統(tǒng)光清洗的汞燈(波長185 nm和254 nm)更高它發(fā)生了。
                   
                    特點三:瞬間點亮和閃爍
                   
                    上述準分子燈發(fā)光原理可以實現(xiàn)瞬間點亮和閃爍,而不損壞準分子燈。利用這一特性,在干洗時,可以只照射輸送過程中的工件,同時,實際的燈壽命比連續(xù)點亮燈時要長。
                   
                    準分子燈結構
                   
                    準分子燈是雙壁石英玻璃管,內(nèi)部有內(nèi)部電極,外部有外部電極。石英玻璃管內(nèi)充滿氙氣,這是一種放電氣體。這是一種通過從射頻電源施加電壓,在石英玻璃管之間高效地產(chǎn)生放電等離子體的機制,并且產(chǎn)生的熱量極少。
                   
                    使用準分子燈進行表面改性
                   
                    短波長紫外線輻射,例如準分子燈的 EUV、DUV 和 VUV,會改變各種材料的表面特性。例如,無機材料包括玻璃、金屬和陶瓷,而有機材料包括橡膠、塑料和其他表面。特別是,它涉及將疏水表面轉變?yōu)橛H水表面。
                   
                    紫外線清洗
                   
                    準分子燈發(fā)出的短波長紫外線具有非常高水平的光子能量,可以破壞大多數(shù)分子鍵。用真空紫外線照射材料表面,具有普通濕式清洗無法達到的去除有機物的效果。污染的有機物引起下式所示的反應,通過氧化和揮發(fā)有效地去除有機薄膜上的有機物。
                   
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